专利名称：阴极真空电弧源薄膜沉积装置及沉积薄膜的方法
专利(申请)号：ZL201010135514.X
申请日期：2010-03-25
授权日期：2012-07-25 00:00:00
发明人：汪爱英; 李洪波; 柯培玲
其他发明人：
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所