专利名称：一种绝缘基片上原位多孔氧化铝膜的制备方法
专利(申请)号：ZL201210323155.X
申请日期：2012-09-04
授权日期：2016-03-09 00:00:00
发明人：王彪; 许高杰
其他发明人：
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所