中国科学院宁波材料技术与工程研究所

一种在低功耗低气压条件制备疏水性碳膜的方法

专利名称:一种在低功耗低气压条件制备疏水性碳膜的方法
专利(申请)号:ZL201410727344.2
申请日期:2014-12-03
授权日期:2017-03-15 00:00:00
发明人:汪爱英; 焦圆; 张栋; 柯培玲; 孙丽丽; 陈仁德
其他发明人:
专利权人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所