中国科学院宁波材料技术与工程研究所

一种MOS器件漏电流瞬态采样装置

专利名称:一种MOS器件漏电流瞬态采样装置
专利(申请)号:ZL202020560779.3
申请日期:2020-04-16
授权日期:2020-12-11 00:00:00
发明人:乔海; 张驰; 戴明志; 李荣; 张杰; 陈思鲁; 杨桂林
其他发明人:
专利权人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所