专利名称：一种高透光电磁屏蔽膜及其制备方法
专利(申请)号：ZL202010009667.3
申请日期：2020-01-06
授权日期：2023-02-17 00:00:00
发明人：宋伟杰; 袁昌卫; 鲁越晖; 黄金华; 李佳; 杨晔; 兰品军
其他发明人：
专利权人：宁波材料所杭州湾研究院; 中国科学院宁波材料技术与工程研究所