专利名称：一种用于宽离子束刻蚀的防反沉积样品台
专利(申请)号：ZL202221145803.2
申请日期：2022-05-13 00:00:00
授权日期：2022-09-20 00:00:00
第一发明人：蒋蓉蓉
其他发明人：蒋蓉蓉; 姚懿容; 李明; 管建敏; 卢焕明; 柯培玲
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所