专利名称：无光刻胶制备有机半导体微器件的光刻方法及微器件
专利(申请)号：ZL202210225965.5
申请日期：2022-03-09 00:00:00
授权日期：2023-10-10 00:00:00
第一发明人：况永波
其他发明人：况永波; 吴艳玲; 刘德宇; 乐家波
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所