专利名称：一种含碳高熵合金薄膜及其制备方法与应用
专利(申请)号：ZL202210205920.1
申请日期：2022-03-03 00:00:00
授权日期：2023-11-24 00:00:00
第一发明人：蒲吉斌
其他发明人：蒲吉斌; 范昕; 付正一
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所