专利名称：Sn掺杂的介稳态氧化镓晶相薄膜及其制备方法与应用
专利(申请)号：ZL202110870509.1
申请日期：2021-07-30 00:00:00
授权日期：2022-04-08 00:00:00
第一发明人：章建国
其他发明人：章建国; 张文瑞; 叶继春; 王维; 刘宁涛
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所