可变磁场磁控溅射镀膜装置及高导电碳基涂层的制备方法
专利名称:可变磁场磁控溅射镀膜装置及高导电碳基涂层的制备方法
专利(申请)号:ZL202110701365.7
申请日期:2021-06-23 00:00:00
授权日期:2023-07-18 00:00:00
第一发明人:汪爱英
其他发明人:汪爱英; 陈仁德; 张栋; 左潇
专利权人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所
专利(申请)号:ZL202110701365.7
申请日期:2021-06-23 00:00:00
授权日期:2023-07-18 00:00:00
第一发明人:汪爱英
其他发明人:汪爱英; 陈仁德; 张栋; 左潇
专利权人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所