专利名称：一种含硅氧纳米晶层的多晶硅薄膜及其制备方法和应用
专利(申请)号：ZL202110428229.5
申请日期：2021-04-21 00:00:00
授权日期：2023-05-23 00:00:00
第一发明人：曾俞衡
其他发明人：曾俞衡; 刘尊珂; 叶继春; 廖明墩; 闫宝杰; 刘伟
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所