专利名称：利用多材料直写3D打印制备磁场调控的仿生结构色和力学性能双响应构件的方法及产品
专利(申请)号：ZL202110303517.8
申请日期：2021-03-22 00:00:00
授权日期：2022-05-17 00:00:00
第一发明人：孙爱华
其他发明人：孙爱华; 马思维; 叶震宇; 储成义; 张帝伟; 高青青; 李志祥; 程昱川; 郭建军; 许高杰
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所