专利名称：一种陶瓷孔洞阵列结构减反膜及其制备方法
专利(申请)号：ZL202110281101.0
申请日期：2021-03-16 00:00:00
授权日期：2022-12-06 00:00:00
第一发明人：高俊华
其他发明人：高俊华; 汪湾; 曹鸿涛; 胡海搏
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所