专利名称：一种沉积有复合薄膜的烧结钕铁硼磁体及其制备方法
专利(申请)号：ZL201711408854.3
申请日期：2017-12-22 00:00:00
授权日期：2020-06-16 00:00:00
第一发明人：宋振纶
其他发明人：宋振纶; 丁雪峰; 胡方勤; 杨丽景; 姜建军; 郑必长; 武秉晖
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所; 包头希迪瑞科技有限公司