专利名称：一种两性离子化高强度耐污染正渗透膜及其制备方法
专利(申请)号：ZL201710628679.2
申请日期：2017-07-28 00:00:00
授权日期：2021-06-22 00:00:00
第一发明人：曾志翔
其他发明人：曾志翔; 朱丽静; 王立平; 宋海明; 薛群基
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所