专利名称：一种清除聚二甲基硅烷裂解反应残留物的方法
专利(申请)号：ZL201610018273.8
申请日期：2016-01-12 00:00:00
授权日期：2018-05-04 00:00:00
第一发明人：莫高明
其他发明人：莫高明; 苗玉龙; 钟希强; 何流; 陈海俊; 裴学良; 杨建行
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所