等离子体薄膜沉积装置
专利名称:等离子体薄膜沉积装置
专利(申请)号:ZL201420479374.1
申请日期:2014-08-22 00:00:00
授权日期:2014-12-10 00:00:00
第一发明人:叶继春
其他发明人:叶继春; 邬苏东; 高平奇; 杨映虎; 韩灿
专利权人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所
专利(申请)号:ZL201420479374.1
申请日期:2014-08-22 00:00:00
授权日期:2014-12-10 00:00:00
第一发明人:叶继春
其他发明人:叶继春; 邬苏东; 高平奇; 杨映虎; 韩灿
专利权人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所