专利名称：等离子体薄膜沉积装置及沉积方法
专利(申请)号：ZL201410419057.5
申请日期：2014-08-22 00:00:00
授权日期：2017-02-08 00:00:00
第一发明人：叶继春
其他发明人：叶继春; 邬苏东; 高平奇; 杨映虎; 韩灿
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所