专利名称：一种SiO2减反射薄膜及其制备方法
专利(申请)号：ZL201210097416.0
申请日期：2012-04-01 00:00:00
授权日期：2013-12-25 00:00:00
第一发明人：宋伟杰
其他发明人：宋伟杰; 兰品军; 李佳; 鲁越晖; 杨晔; 谭瑞琴
专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所