一种高光转化率的含氟聚噻吩光电材料及其制备方法
专利名称:一种高光转化率的含氟聚噻吩光电材料及其制备方法
专利(申请)号:ZL201010176879.7
申请日期:2010-05-17 00:00:00
授权日期:2012-05-23 00:00:00
第一发明人:薛立新
其他发明人:薛立新; 葛子意; 戴宁
专利权人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所
专利(申请)号:ZL201010176879.7
申请日期:2010-05-17 00:00:00
授权日期:2012-05-23 00:00:00
第一发明人:薛立新
其他发明人:薛立新; 葛子意; 戴宁
专利权人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所